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精密光学、核能、大规模集成电路、激光和航空航天等尖端技术中所用的硬脆性材料元件常常需要非常高的表面精度以及非常小的加工损伤层。高表面精度及表面完整性可以保证光学元件良好的成像质量，较小的加工损伤层可以减少光学元件在高能应用中的损坏。超精密加工对工件的材质、加工设备与加工工具、测量和环境等条件都有特殊的要求，需要综合应用精密机械、精密伺服系统、计算机控制技术、精密测量以及其他先进技术才能获得良好的加工效果。超精密加工技术主要有超精密切削、超精密磨削、超精密特种加工和超精密抛光，而超精密抛光是最终得到超光滑表面的有效加工方法（当被加工表面的尺寸波动范围在0.1～0.2 nm之间，具有这种特征的表面称为“超光滑表面”）。超精密抛光以获得极限的形状尺寸精度、表面粗糙度以及极少的表面损伤（残余应力、组织变化、微裂纹缺陷等）为目标，利用微细磨粒的机械作用和化学作用，在软质抛光工具或电/磁场、化学抛光液等辅助作用下，减少或完全消除加工变质层，获得高表面质量。
磁流变体（Bingham体）具有黏弹性，能有效约束磨粒对工件表面的材料进行抛光去除。磨粒在抛光时处于半固着状态，Bingham体能使粒度分布不均匀的大、小磨粒均匀作用于加工表面，避免了由于磨粒不均匀导致的划痕和亚表面损伤。另外，由于磁链串对磨粒的柔性夹持作用，即便抛光时选用去除效率较高的硬磨粒（如金刚石粉），也能产生高质量的抛光表面。因此，磁流变抛光技术是一种非常好的光学材料精密加工方法，具有抛光效果好、不产生亚表面损伤、适合复杂表面加工等传统抛光所不具备的优点，广泛应用于大型光学元件、半导体晶片、LED 基板、液晶显示面板等材料。
为了实现光电晶片的高效率超光滑平坦化加工，广东工业大学机电工程学院超精密加工技术与装备研究项目组提出了集群分布式磁性体构成抛光工具形成集群磁流变效应抛光（Cluster Magneto-rheological Polishing），将多个小磁性体有规则地排列在非磁性体圆盘上，形成集群磁流变效应平面抛光盘，并对各类半导体材料进行了抛光加工试验，取得了预期的试验效果。例如采用集群磁流变效应平面抛光加工方法来抛光K9玻璃和硅片，K9玻璃最终表面粗糙度Ra可以达到0.005 μm，硅片可以达到0.016 μm。同时具有高效率，10 min时间可以实现表面粗糙度下降一个数量级，50 min可以实现K9玻璃降低表面粗糙度3个数量级、硅片降低表面粗糙度1个数量级。
广东工业大学机电工程学院超精密加工技术与装备研究项目组由一批国内外优秀的专家学者、高级技术人员组成，有国`务`院特殊津贴的专家、千百十工程培养的专家、教授、副教授、讲师、实验师等，先后投入了多名博士后、二十多名博士、一百多名硕士研究生和五十多名本科生进行了本项目的研究。项目组先后获得2005年度教`育`部科技发明奖一等奖、2013年广东省专利金奖（金属板材分切）、第十五届中国专利优秀奖（金属板材分切），中国机械工程学会优秀论文奖，中国机械工程学会工作成果奖、广东机械工程学会科学技术二等奖等，目前发表SCI收录论文50篇，EI收录论文70余篇，中文核心论文30余篇，申请美国专利2件、PCT专利4件、中国发明专利38件、中国实用新型专利12件。
磁流变抛光技术具有加工面形精度高、表面粗糙度小、加工过程易于控制、表面损伤小等优秀特点，广泛应用于大型光学元件、半导体晶片、LED 基板、液晶显示面板等光电材料，如 Fused Silica、Zerodur 等常规光学玻璃材料，Si、CaF2、ZnSe 等软性材料，Rb-SiC、S-SiC 等硬性材料，单晶 SiC、Al2O3、GaN、ZnO 等半导体材料，AlN、Al2O3、SrTiO3 等工程陶瓷超薄硬脆材料。目前国内外采用磁流变抛光的市场规模还相对较小，相比于化学机械抛光，目前技术成熟度还不是很高，但随着磁流变抛光技术的发展，相比化学机械抛光，磁流变抛光效率更高，适用范围更大，因此将会具有更广泛的市场需求。
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