一种多溅射轨道的平面磁控溅射靶，包括靶板、磁体组件，所述磁体组件安装在所述靶板后方，所述磁体组件中磁体的布置结构使其在所述靶板的靶面上形成两个以上的椭圆形或圆形溅射轨道。本实用新型平面磁控溅射靶通过在靶板的靶面上形成多个密集排布的溅射轨道，使平面磁控溅射靶靶材利用率高、发射的等离子体浓度高、发热相对较为分散、镀出的膜层均匀性好。

一种多溅射轨道的平面磁控溅射靶，包括靶板、磁体组件，所述磁体组件安装在所述靶板后方，所述磁体组件中磁体的布置结构使其在所述靶板的靶面上形成两个以上的椭圆形或圆形溅射轨道。本实用新型平面磁控溅射靶通过在靶板的靶面上形成多个密集排布的溅射轨道，使平面磁控溅射靶靶材利用率高、发射的等离子体浓度高、发热相对较为分散、镀出的膜层均匀性好。